Impianto strutturale di Ion Parts In Semiconductor Ion del molibdeno

L'impiantazione ionica è un processo a bassa temperatura con cui gli ioni di un elemento sono accelerati in un obiettivo solido, quindi cambiante le proprietà chimiche o elettriche di fisico medica, dell'obiettivo. L'impiantazione ionica è utilizzata nella fabbricazione del dispositivo a semiconduttore, nel trattamento di superficie del metallo e nella ricerca di scienza dei materiali.

L'iniettore per impianto dello ione è l'attrezzatura chiave nella fabbricazione del circuito integrato. Quando i raggi ionici che sono sparati sulla superficie del semiconduttore e depositati, la concentrazione in trasportatore ed il tipo della conduzione è cambiato. Possedendo alla sua modifica di superficie eccellente, l'impiantazione ionica ampiamente si applica nel materiale di conduzione dei semi, in metallo, in ceramica, in polimero di grande molecolarità, nell'impiantazione ionica ecc. è essenziale nella fabbricazione del circuito integrato massiccio (IC). Le parti del molibdeno sono componenti chiavi nel sistema di fonte di ione dell'iniettore per impianto dello ione a semiconduttore per reprimere e proteggere la componente di impiantazione ionica del raggio di ionizzazione. .molybdenum per l'iniettore per impianto dello ione

Applicazione: Pezzi di ricambio di iniettore per impianto dello ione del molibdeno per il semiconduttore
1. La maggior parte delle parti del molibdeno per impiantazione ionica sono utilizzate nell'industria a semiconduttore;
parti del molibdeno dei prodotti 2.We per impiantazione ionica con alta densità, purezza ed accuratezza e struttura interna omogenea;
3. Le nostre parti del molibdeno per impiantazione ionica sono adatte ad iniettore per impianto corrente del fascio moderato e ad iniettore per impianto corrente del forte fascio;
4. le parti del molibdeno per impiantazione ionica sono fatte secondo il disegno del cliente.