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Nome: | Disco del wafer del molibdeno Mo1 | Densità: | ≥10.2 g/cm3 |
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Purezza: | 99,95% | Spessore: | 0.03mm ~ 130mm |
Punto di fusione: | 2617°c | Superficie: | Nero, a terra, lavorato |
Evidenziare: | I prodotti lucidati del molibdeno Mo1,wafer del molibdeno 99,95% |
99,95% ha lucidato precisamente l'alto disco del wafer del molibdeno Mo1 come materiale del contatto
Descrizione di prodotto del disco del wafer del molibdeno Mo1:
Specificazione del disco del wafer del molibdeno Mo1:
Spessore (millimetro) | Tolleranza di spessore | Larghezza (millimetro) | Tolleranza di larghezza | Lunghezza (millimetro) | Tolleranza di lunghezza |
0.10~0.30 | ±0.01 | ≤350 | ±2 | ≤1300 | ±5 |
0.31~2.00 | ±0.05 | ≤600 | ±5 | ≤1300 | ±5 |
2.01~3.00 | ±0.08 | ≤400 | ±3 | ≤1000 | ±5 |
3.01~4.00 | ±0.10 | ≤400 | ±3 | ≤1000 | ±5 |
Uniformità nell'alto tempo di impiego lungo d'accensione di efficienza del passo, di forma, di colore, di lustro e del peso del pezzo
Applicazione: elettronica, illuminazione, placcatura di vuoto, apparecchi medici, semiconduttore
Mo: 99-99.99%.
Punto di fusione: 2617°c.
Densità: 10.2g/cm3.
Norma: GB, ASTMB686-91, Q/XY.
MOQ: 1 pc
Spessore: 0.03-130mm.
Larghezza: 6-650mm.
Lunghezza: 10-6000mm
Caratteristiche del disco del wafer del molibdeno Mo1:
punto ad elevato punto di fusione, ad alta resistenza,
conducibilità termica eccezionale,
resistenza eccellente ad ossidazione alle temperature elevate,
resistenza eccellente a corrosione elettrochimica
Applicazioni del disco del wafer del molibdeno Mo1:
usato come l'additivo di fabbricazione dell'acciaio
per la produzione degli obiettivi del molibdeno
per la produzione delle parti di impiantazione ionica
per la stagnola di rotolamento del molibdeno ed i dischi di perforazione del molibdeno
per la produzione delle Mo-barche e gli elementi riscaldanti in fornaci ad alta temperatura
per la produzione le parti elettriche di sorgente luminosa e delle componenti elettriche di vuoto
Persona di contatto: Lisa Ma
Telefono: 86-15036139126
Fax: 86-371-66364729